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低温多晶硅(LTPS)显示技术
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低温多晶硅(LTPS)显示技术
更新到 | 200集
原著:
未知
主播:
紫木杉日lj
类型:
教材
更新时间:
2019-01-21
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5.4 激光晶化系统,准分子激光源
5.4.2 光学与基板承载系统
5.5 多晶硅成膜机制
5.5.1-5.5.3 部分熔融区&接近完全熔融区&完全熔融区
5.6 晶化质量提升&5.6.1 重叠照射
5.6.2 非晶硅厚度&5.6.3 抗反射层
5.6.4 晶化气氛与温度
5.6.5 多晶硅薄膜分析工具
5.7 下一代多晶硅技术
5.7.1 循序性横向晶化
5.7.2 固态激光晶化
5.7.3 连续波激光横向晶化
5.7.4 选择性扩大激光晶化
5.7.5 连续硅晶界
第六章 LTPS离子注入技术&6.1概述
6.2 显示器用注入系统
6.2.1 质量分析式离子注入
6.2.2 离子云式注入机
6.2.3 等离子体注入与固态扩散
6.3 漏极与源极端掺杂
6.3.1 氢含量的影响
6.3.2 反型注入&6.3.3 交叉污染
6.3.4 光刻胶碳化效应
6.4 轻掺杂漏极(上)
6.4 轻掺杂漏极(下)
6.4.1 高能量注入
6.4.2 低电流注入
6.5 沟道掺杂
6.6 离子激活工艺
6.6.1 激光激活法
6.6.2 快速热退火激活法
6.6.3 高温热炉管激活法与自激活法
第七章 低温多晶硅面板开发现况&7.1 概述&7.2 日本LTPS的开发
7.2.1 东芝(上)
7.2.1 东芝(下)
7.2.2 松下
7.2.3 三洋
7.2.4 索尼
7.2.5 夏普
7.2.6 精工爱普生
7.2.7 富士通
7.2.8 日立
7.2.9 日本电器(NEC)
7.2640 三菱
7.3 韩国低温多晶硅的开发
7.3.1 LG-Philips
7.3.2 SAMSUNG
7.4 台湾低温多晶硅的开发
8.2 功率消耗
8.3 薄膜晶体管显示器
8.3.1 MIM二极管的原理与结构
8.3.2 TFD二极管的原理与结构
8.3.3 二极管面板的驱动方式
8.4 反射式液晶显示器
8.4.1 反射板设计
8.4.2 外部补偿设计&8.4.3 其它反射式显示面板
8.5 半透式液晶显示器
8.5.1 比例设计
8.5.2 彩色滤光片设计
8.5.3 背光及组装模组
8.6 省电设计
8.6.1 嵌入式SARM
8.6.2 嵌入式DRAM
9.2 大面积基板
9.2.4 电阻-电容时间延迟
9.2.2 无接缝技术
9.3 前段阵列工艺
9.3.1 低阻值引线技术
9.3.2 维微细加工工艺
9.3.3 刻蚀工艺
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《低温多晶硅(LTPS)显示技术》详细内容
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